紫外臭氧清洗機

全新升級的第五代機型，操作和維護更簡便，適用于科研實驗和小批量生產，擁有工業級別的清洗效率和效果，三種照射尺寸： 

150*150，200*200，250*250mm

尺寸較大的清洗腔可滿足體積大產品進行表面處理，靈活調節的升降托盤，方便操作的箱式設計，適合科研實驗和小批量生產，兩種照射尺寸：

150*150，200*200mm

應用領域

用于處理ITO,FTO，光學玻璃，半導體，硅片，金屬，陶瓷，聚合物等基片表面的有機物，可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性，廣泛應用在鈣礦鈦電池，晶圓制造，光通訊，OLED等行業。

清洗原理

VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發生氧化反應，生成揮發性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

清洗效果

玻璃片在初始狀態，超聲波或溶液法清洗，UV清洗后表面水滴狀態

超聲波或溶液清洗后

參考客戶

寧德時代，比亞迪，京東方，晶科能源，東方日升，福晶科技，水晶光電，蘇州協鑫，蜂巢能源，纖納光電，大族激光，國家納米中心，中科院長春光機所，中科院半導體所，中科院長春應化所，中科院蘇州納米所，中科院寧波材料所，中科院上海高等研究院，中科院深圳先進技術研究院，清華大學，北京大學，復旦大學，中國科學技術大學，浙江大學，同濟大學，中國人民大學，南京大學，武漢大學，哈爾濱工業大學，西安交通大學，吉林大學，中山大學，華南理工大學，東南大學，電子科技大學，哈爾濱工業大學，北京大學深圳研究生院，清華大學深圳研究生院，哈工大深圳研究生院，香港中文大學（深圳），澳門大學，吉林大學，中南大學，西北工業大學，暨南大學，廈門大學，山東大學，天津大學，大連理工大學，華南師范大學，湖南大學，西南大學，北京科技大學，北京化工大學，北京工業大學，北京理工大學，鄭州大學，東北大學，東北師范大學，上海大學，南方科技大學，深圳大學，廣東工業大學，廣州大學，南京郵電大學，廣西大學等